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化學鍍鎳廢水目前是一種應用廣泛的表面處理技術，尤其在印制電路板(PCB)、五金電鍍和化工工業等行業應用廣泛。隨著此類工藝的發展，化學鍍鎳廢水的有效除鎳方法也備受關注，其原因在于化學鍍鎳廢水的組成較為復雜，包括了無機鹽、絡合物等等，因此化學鍍鎳廢水的處理比較困難。

化學鍍鎳是在次磷酸鈉為還原劑的酸性或堿性體系中進行的，為了保證鍍液的穩定性、使用壽命和鍍層質量，鍍液中需要加入絡合劑、穩定劑、加速劑、ph值緩沖劑和鍍鎳光亮劑等。而由于加入的絡合劑較多，與廢水中的鎳有較強的絡合性，可形成穩定的絡合物。

經常規沉淀方法處理后的廢水均無法達到國家表三排放標準(鎳離子濃度<0.1ppm)，而芬頓氧化、多級化學沉淀法等組合方式流程極為復雜、成本較高，而處理效果不穩定。

HMC-M2是湛清研發人員專門針對高難度的化學鍍鎳廢水研發的高效絡合鎳去除劑，該藥劑螯合能力強，可以直接去除絡合鎳，在強酸強堿條件下，均可將鎳離子濃度降低至0.1mg/L以下，達到表三標準，同時可有效控制處理成本。